1 試験片

Al箔(10μm厚) ,Al箔(10μm厚 ) ,Al箔(20μm厚 )

2 使用機器 HSW-03 スポット溶接機
3 使用電極 HSW-EB1(棒状電極) ,PSW-R2(ローラ電極)
4 機器設定

Al(1N30)10μmは、シーム電極で9V,130μSで一番良好でしたが、穿孔部分もありました。電極を最適化することで避けられる可能性があります。
8021 10μm は、シーム電極で、9V 130μS で一番良でしたが、110μS ではまったく溶接されませんでした。(この辺の調整がHSW-02Aでは困難でした。)
8021 20μmは、シーム電極で、9V 200μS で良好でした。必要ならパルス幅をもう少し上げる余地はあります。

5 溶接状況

電極:(+赤)棒状電極→Al箔→Al箔→ローラー電極(-青)の順

6 写真
テスト実施年月日:平成21年9月7日(月)

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