（１） Aｌ集電体15μm ＋ Alタブ 100μm （２） Cu集電体 15μm ＋ Cuタブ 100μm
| 1 | 試験片 | （１） Aｌ集電体15μm ＋ Alタブ 100μm （２） Cu集電体 15μm ＋ Cuタブ 100μm |
| 2 | 使用機器 | HSW-03 |
| 3 | 使用電極 | HSW-FB2（平板電極）、 PSW-P1（溶接スティック） |
| 4 | 機器設定 | 電圧 15.0V パルス幅 1mS |
| 5 | 溶接状況 | 上記の弊社溶接機および電極を用いて溶接いたしました。《結果》良好 |
| 6 | 写真 |
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